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高温&高真空退火炉 GSL-2000X-HV

GSL-2000X-HV 是一款高温高真空气氛烧结炉,根据不同的加热元件模块,最高烧结温度可从1600℃到2000℃,此款烧结炉的真空度可高达10 -6Torr(分子泵)

高温&高真空退火炉 GSL-2000X-HV

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OTF-1200X-IR-IISL 900℃ 双温区RTP炉

OTF-1200X-IR-IISL是一款双温区红外加热快速热处理炉,其炉管直径为4英寸。此款设备可使样品最大升温速率达到50℃/S,此款设备不仅可对样品进行快速热处理,还可采用HPCVD方法来生长二维晶体(一个加热区用来盛放固体蒸发原料,另一个加热区用于沉积样品)。

OTF-1200X-IR-IISL 900℃ 双温区RTP炉

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